光変調をより高速で動作させるためには、導波路部分により高い電気光学(EO)定数を持つ材料を、より薄く形成することが求められます。また、導波路の周りには導波路内に光を閉じ込めるような、また光信号に影響を及ぼさない材料で構成される必要があるため、シリコンやガラス系の材料の上に高品質な高EO薄膜を形成する必要があります。当社は、九州大学の技術指導の下、良質なPLZT結晶薄膜を形成する技術を開発しました。
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